|
|
|
|
| 2026深圳國際光刻膠產業技術展覽會 |
|
【展會群】
欄目：展會新聞
發表時間：2025-10-07
|
|
|
|
|
|
摘要：2026深圳國際光刻膠產業技術展覽會
PCB光刻膠展覽會LCD光刻膠展覽會半導體光刻膠展覽會
時間：2026年6月10-12日
地點：深圳國際會展中心
█展會背景
光刻膠是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，被譽為半導體材料皇冠上的明珠，在半導體、新型顯示、印制電路板等泛半導體領域的生產中具有重要作用。隨著全球對半導體技術依賴程度的加深，光刻膠的…
|
2026深圳國際光刻膠產業技術展覽會
PCB光刻膠展覽會 LCD光刻膠展覽會 半導體光刻膠展覽會
時間：2026年6月10-12日
地點：深圳國際會展中心
█展會背景
光刻膠是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，被譽為半導體材料皇冠上的明珠，在半導體、新型顯示、印制電路板等泛半導體領域的生產中具有重要作用。隨著全球對半導體技術依賴程度的加深，光刻膠的重要性愈加凸顯。目前我國光刻產業的發展面臨著諸多挑戰。在光刻膠領域，國內高端光刻膠自給率低，研發和生產技術與國際先進水平有差距，產品性能和質量難以滿足高端芯片制造需求。濕電子化學品方面，部分高純度、特殊配方產品依賴進口，供應受限。掩模版的高精度制造技術難度大，高端掩模版原料主要依賴進口，供應受制于人，其快速修復和更新技術有待提升。光刻機更是被國外壟斷，高端光刻機如EUV光刻機難以獲得，國內光刻機企業在技術水平、制造精度、光源系統等方面與國際先進水平存在較大差距，成為制約我國半導體產業發展的“卡脖子”環節。
為推動國內高端光刻膠技術創新，加快核心技術突破與產業化應用，同時加強下游需求應用與科研、產業企業的協同研發、技術交流。2026深圳國際光刻膠產業技術展覽會將圍繞集成電路、新型顯示、PCB領域高性能光刻膠以及光刻膠專用樹脂、光引發劑、顏料等原料技術與設備全方面展示和產學研用技術交流。是國內最主要的光刻膠領域行業盛會，一年一屆。大會已成為推動國內高端光刻膠技術創新、加快核心技術突破與產業化應用、加強產學研用深度融合的重要平臺，在行業產生了廣泛的影響力。
█日程安排：
報到布展：2026年6月8-9日 展出時間: 2026年6月10-12日
█頂級盛會（大會設贊助、協辦單位，詳情請致電組委會）
品牌展示 高層論壇 行業用戶洽談會 外商采購會 新技術新產品發布會
“搭建國際采購貿易平臺、促進企業交流合作、提高參展效果”
————將是我們的目標！
? 匯集最新的銷售訊息，結識來自國內和國際的高質量買家群；
? 了解未來的產品需求，獲得最新的市場發展訊息；
? 通過行業分工合作以及產業鏈需求尋求新的商業機會；
? 發布新技術、展示新產品的絕佳平臺，獲得市場推廣及品牌建設良機，提高行業認知度；
? 參加相關的論壇活動，獲悉行業發展趨勢、技術創新的最新資訊。
█展品范圍：
◆PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導體光刻膠。PCB（干膜光刻膠、濕膜光刻膠以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠以及TFT-LCD光刻膠）；半導體（紫外光刻膠、深紫外光刻膠、極紫外光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠以及X射線光刻膠）等；
◆光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻膠、TARC、Top Coating、稀釋劑、沖洗液、顯影液等；
◆光刻膠原材料（光引發劑/感光劑、樹脂、單體、溶劑、添加劑）等；
◆光刻膠專用試劑：稀釋劑/去邊劑、成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑、顯影液和剝離液等；
◆光刻技術、光刻膠與濕電子化學品、納米壓印、特種氣體、掩膜版與光刻材料與設備等；
◆設備：合成、純化、混合、過濾、光刻機、涂膠顯影設備以及后續的刻蝕、量測等設備；
█展會優勢：
發布年度新品——百余家媒體競相直播報道，是企業發布年度新品的重要渠道
了解行業趨勢——作為行業“風向標”及“晴雨表”，第一時間展現市場動向及趨勢
維系重要客戶——這是業內人士都不會錯過的盛會，也是您會面維系老客戶，接待新客戶的好機會
參展、參觀詳情咨詢：
咨詢熱線：021-34513031
聯系人:錢先生13162771109
郵 箱：baoliexpo@126.com
http://www.szgyqx.com
|
|
|
|
|
免責聲明：
|
|
|
1、本站部分內容系網友投稿或編輯轉載，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責。
2、如涉及作品內容、版權和其它問題，請在30日內與本網聯系，我們將在第一時間刪除或斷開鏈接！
※ 有關作品版權事宜請聯系客服
|
|
|
|
|
|
|
